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真空快速退火炉 半导体RTP\RTA\RTN设备

真空快速退火炉 半导体RTP\RTA\RTN设备

真空快速退火炉半导体RTP\RTA\RTN设备采用红外辐射加热技术,可实现大尺寸样品(8英寸)快速升温和降温,可用于快速热处理(RTP)、快速热退火(RTA)、快速热氧化(RTO)、快速热氮化(RTN)及金属合金化等半导体工艺。

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  • 湖北 武汉
  • 快速退火炉,液氮低温恒温器,RTP快速退火炉,真空快速退火炉

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    湖北 武汉 江夏区 武汉市东湖开发区高新大道999号未来科技城C4栋11层
产品特性:热销是否进口:否产地:湖北武汉
加工定制:是品牌:嘉仪通型号:RTP-3-08

真空快速退火炉 半导体RTP\RTA\RTN设备详细介绍

关键词:快速退火炉 真空快速退火炉

 

武汉嘉仪通科技有限公司成立于2009年,是一家技术自主创新的国家新技术企业。公司集快速退火炉研发、市场和技术服务于一体的真空快速退火炉厂家

 

本公司生产销售的真空快速退火炉覆盖1-12吋样品测试,分为科研与产线两种应用场景类型共8款机型。

 

RTP-3-08系列自立式8吋真空快速退火炉采用红外辐射加热技术,可实现大尺寸样品(8英寸)快速升温和降温,可用于快速热处理(RTP)、快速热退火(RTA)、快速热氧化(RTO)、快速热氮化(RTN)及金属合金化等半导体工艺。

 

 

真空快速退火炉产品特点:

快速加热和降温: 可控升温速率可达50 ℃/s,特定条件下可以达到100 ℃/s。冷壁水冷设计能够达到较大的降温速率,特定条件下可达30 ℃/s。

 ***控温: 采用工业级温控器进行PID***控温,目标温度与设定温度曲线一致性高,可实现室温至1200 ℃的温度***控制。

 适应多种工艺环境: 满足多种工艺气氛下的热处理(氮气、氩气等)。同时,通过选配真空泵,可以在真空条件下进行退火,真空度可达10-3Pa

 配备观察窗口: 通过观察窗口,可以实时观察热处理过程中的样品变化。同时,可以结合相关测试方法进行原位测试分析。

 ***安全系数: 采用炉壁超温报警系统和冷却水流量报警系统,多方位保障仪器使用安全。

真空快速退火炉厂家:拥有自主研发技术和制造能力,能快速反应客户售后需求。

 

真空快速退火炉技术参数:

 

型号

1-12英寸系列

温度

1200℃

升温速率

50℃/s

温度均匀性

≦1%设定温度

温度控制

选用工业级温控器,控温精度±0.1℃

温度传感器

标准K型热电偶

降温速率

1200℃→400℃,200℃/min

400℃→100℃,20℃/min

(自然冷却)

样品尺寸

1-12英寸样品

 

真空快速退火炉厂家 服务的客户:

 

公司的快速退火炉服务于的大学有:清华大学、复旦大学、南京大学、浙江大学等大学;

服务的重要科研院所:中科院微电子所、半导体所、微系统所、绵阳九院等;

服务的半导体企业有:华为海思、三安光电、敏而精密、泽达等等头部半导体企业等等。


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